基於近場超級透鏡的亞波長納米光刻技術的研究

基於近場超級透鏡的亞波長納米光刻技術的研究

《基於近場超級透鏡的亞波長納米光刻技術的研究》是依託電子科技大學,由郭小偉擔任醒目負責人的青年科學基金項目。

基本介紹

  • 中文名:基於近場超級透鏡的亞波長納米光刻技術的研究
  • 依託單位:電子科技大學
  • 項目類別:青年科學基金項目
  • 項目負責人:郭小偉
項目摘要,結題摘要,

項目摘要

傳統光刻技術因衍射極限無法加工亞波長尺寸的微細結構,所以超衍射極限的微細加工技術一直是人們追求的目標,其研究具有重要的科學意義與套用價值。.本項目提出一種利用近場超級透鏡結構來實現超衍射極限的納米光刻方法,並研究解決其關鍵技術。項目的研究內容包括近場超級透鏡結構超衍射極限成像的物理機制、超級透鏡結構的設計與製作、建立光刻實驗系統探索近場光刻的實驗工藝等。重點解決的關鍵技術是近場超級透鏡結構的光學傳遞函式、超級透鏡結構膜層均勻性的製作工藝和基於近場超級透鏡的光刻工藝條件等。研究將從理論分析、模擬彷真和原理性器件的實驗等方面對其所提出方法進行驗證,並探索其光刻質量改善的有效途徑。.此方法滿足微納光、電子學領域納米結構製作高分辨、低成本加工等諸多特殊要求,可望對極大規模積體電路和微納光子、電子學的發展有重要的促進作用。

結題摘要

本課題深入分析了光波在超級透鏡結構中的傳輸過程,探索了超衍射極限成像物理機制,研究了表面電漿對倏逝波多種增強機理,提出了兩種長程表面電漿納米光刻方案;分析了超級透鏡結構的頻譜傳遞能力,論證了在材料參數數值上不匹配的情況下不同倏逝波成像具有不同的焦深;研究了不同結構透鏡成像特點,發現了周期性結構成像會引起頻率加倍現象,提出最佳化金屬介電常數來提高光刻成像圖案的對比度和焦深;編寫了多層結構光譜傳遞數值程式,設計並製作出超級透鏡結構;探索了干涉技術和微球自組裝技術製作不同尺度掩膜版的理論與實驗,開發出一種新型的微球自組裝技術,通過透鏡結構加工出納米圖案,實現了約七分之一波長的光刻分辨力。上述結果論證了超衍射極限光刻成像,對超衍射納米光學光刻技術進一步發展具有一定的參考作用。
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