《基於準LIGA技術的MEMS製造誤差修正方法計算機仿真研究》是依託中國科學技術大學，由鄭津津擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：基於準LIGA技術的MEMS製造誤差修正方法計算機仿真研究
- 項目負責人：鄭津津
- 依託單位：中國科學技術大學
- 批准號：60473133
- 研究期限：2005-01-01 至 2007-12-31
- 申請代碼：F0209
- 支持經費：24（萬元）
- 負責人職稱：教授
- 項目類別：面上項目
中文摘要
本項目旨在研究如何建立集成的從掩膜加工到MEMS深度光刻全過程的計算機仿真模型。在此計算機仿真模型中，將重點研究:(1).掩膜加工中幾何圖形的誤差算法；(2).光刻過程中MEMS微結構幾何圖形的誤差算法。(3).基於MEMS微結構特定關注層面的誤差反饋，研究動態的計算機模擬修正初始設計圖形，以期獲得高精度大高寬比的MEMS微結構。.MEMS是多種學科交叉融合併具有戰略意義的前沿高技術。MEMS以其微型化的優勢，在汽車、電子、家電、機電等行業和軍事領域有著極為廣闊的套用前景。深度光刻正是套用於MEMS加工、製作的一項重要技術。然而直接加工MEMS樣機既耗費大量的資金，又延長了研製周期。通過計算機仿真研究，使設計人員能夠在加工之前檢驗設計和工藝的有效性，並在設計階段就能夠考慮工藝變化對MEMS微結構的影響，這對於提高MEMS器件設計製造水平具有重要意義。
