《基底亞表面缺陷對雷射薄膜的性能影響及其表征與控制》是依託中國科學院上海光學精密機械研究所，由邵建達擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：基底亞表面缺陷對雷射薄膜的性能影響及其表征與控制
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：邵建達
- 依託單位：中國科學院上海光學精密機械研究所
- 支持經費：33（萬元）
- 研究期限：2009-01-01 至 2011-12-31
- 負責人職稱：研究員
- 申請代碼：F0509
- 批准號：60878045
項目摘要
由光學元件亞表面缺陷引起的雷射損傷是限制高功率雷射系統能量進一步提高的重要原因。本項目首先採用不同的表征方法如化學刻蝕、受抑全反射等對光學元件的亞表面缺陷進行綜合表征，探究亞表面缺陷對拋光工藝的依賴關係；進而研究光學元件的亞表面缺陷對雷射薄膜光學的性能和損傷閾值的影響，分析光學元件的雷射損傷與其亞表面缺陷之間的耦合機理；另外，探索研究亞表面缺陷的後處理手段如雷射預處理、離子轟擊等在改善光學元件性能方面作用。項目的目標是深入認識亞表面缺陷誘導損傷機理，並為抑制亞表面缺陷對雷射薄膜性能的負面影響尋找有效的解決途徑。
