垂直平面近場測量系統是一種用於電子與通信技術領域的計量儀器，於2010年12月26日啟用。
基本介紹
- 中文名：垂直平面近場測量系統
- 產地：美國
- 學科領域：電子與通信技術
- 啟用日期：2010年12月26日
- 所屬類別：計量儀器 > 電子學計量儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
NSI-200V-5x5 掃描架技術指標 構造：倒T型，鋁質；掃描範圍：（1.5m x 1.5 m）；平面度：0.005 （0.125 mm）RMS 校正後平面度：0.002（0.05mm）RMS；解析度 （x,y）：0.0025 （0.06 mm）位置重複性：0.002 （0.05 mm）RMS；掃描速度 （X,Y）：X軸 -15in/s （0.38 m/s）, Y軸 -30in/s （0.76 m/s）； 測量工作站和大尺寸LCD顯示器；馬達電纜：便捷連線式電纜； （12 m）；電源：100-240 VAC 可調電源； 47-63 Hz, 500 watts；重量：約221 kg 極化轉台採用NSI-SC-5632A轉台；總垂直負載430 lb （1,95 Kg）；總徑向負載160 lb （73 Kg）；彎（曲）矩20 ft-lb （27 N-m）；運速 40 deg/sec ；機械性回差0.05 deg ；行程 360 deg 。
主要功能
（1）以平面近場掃描技術為基礎，能分析暗室靜區反射率電平，及多徑反射、泄露來源； XY平面掃描的原始數據可由其他程式調用；（2）能夠使用自由空間駐波比法標定暗室靜區的反射率電平幅度和相位平坦度；系統允許的最低反射率電平不大於-55dB。（3）能夠使用2－D 連續波SAR成像法確定暗室設備靜區中的RF泄露及較強反射區域位置；（4）能夠滿足相應中高增益天線的平面近場掃描測試，並能提供相應的參數，如三維方向性圖、增益等。
