反應離子刻蝕儀

反應離子刻蝕儀是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2012年9月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：反應離子刻蝕儀
• 產地：美國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2012年9月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

刻蝕速度＞250nm/min 刻蝕均勻性＜5%。

主要功能

FBAR濾波器開發與套用。