半導體超純水設備

半導體(semiconductor)，指常溫下導電性能介於導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和矽是最常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等;氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。

基本介紹

• 中文名：半導體超純水設備
• 外文名：semiconductor
• 實質：設備
• 運用：半導體

電去離子（EDI）系統概述

電去離子（Electrodeionization）簡稱EDI，是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水製造技術。屬高科技綠色環保技術。EDI淨水設備具有連續出水、無需酸鹼再生和無人值守等優點，已在製備純水的系統中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種先進技術的環保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在醫藥、電子、電力、化工等行業得到推廣。

電去離子（EDI）系統的工作原理

電去離子（EDI）系統主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質離子發生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜).淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留；水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留,這樣通過淡室的水中離子數逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由於濃室的陰陽離子不斷湧進,電介質離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達到淡化,提純,濃縮或精製的目的。

電去離子（EDI）系統的優點

1. 無需酸鹼再生：在混床中樹脂需要用化學藥品酸鹼再生，而EDI則消除了這些有害物質的處理和繁重的工作，保護了環境。
   
2. 連續、簡單的操作：在混床中由於每次再生和水質量的變化，使操作過程變得複雜，而EDI的產水過程是穩定的連續的，產水水質是恆定的，沒有複雜的操作程式，操作大大簡便化。
   
3. 降低了安裝的要求：EDI系統與相當處理水量的混床相比，有較不的體積，它採用積木式結構，可依據場地的高度和窨靈活地構造。模組化的設計，使EDI在生產工作時能方便維護。
   

電去離子（EDI）系統的套用領域

1、電廠化學水處理

2、電子、半導體、精密機械行業超純水

3、食品、飲料、飲用水的製備

4、小型純水站，團體飲用純水

5、精細化工、精尖學科用水

6、其他行業所需的高純水製備

7、製藥工業工藝用水

8、海水、苦鹹水的淡化

工藝流程

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)。

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(最新工藝)。

3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(最新工藝)。

4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(最新工藝)。

5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)。