半導體材料,作者楊樹人 王兢,介紹主要半導體材料矽、砷化鎵等製備的基本原理,工藝和特性的控制等。
基本介紹
基本信息
內容簡介
《半導體材料(第2版)》也可以作為從事與半導體相關研究工作的科研人員和相關專業研究生的參考書。
圖書目錄
前言
緒論
第1章 矽和鍺的化學製備
1-1 矽和鍺的物理化學性質
1-2 高純矽的製備
1-3 鍺的富集與提純
第2章 區熔提純
2-1 分凝現象與分凝係數
2-2 區熔原理
2-3 鍺的區熔提純
第3章 晶體生長
3-1 晶體生長理論基礎
3-2 熔體的晶體生長
3-3 矽、鍺單晶生長
第4章 矽、鍺晶體中的雜質和缺陷
4-1 矽、鍺晶體中雜質的性質
4-2 矽、鍺晶體的摻雜
4-3 矽、鍺單晶的位錯
4-4 矽單晶中的微缺陷
第5章 矽外延生長
5-1 外延生長概述
5-2 矽的氣相外延生長
5-3 矽外延層電阻率的控制
5-4 矽外延層的缺陷
5-5 矽的異質外延
第6章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體
6-1 Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體的特性
6-2 砷化鎵單晶的生長方法
6-3 砷化鎵單晶中雜質的控制
6-4 砷化鎵單晶的完整性
6-5 其他Ⅲ-Ⅴ族化合物的製備
第7章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體的外延生長
7-1 氣相外延生長(VPE)
7-2 金屬有機物氣相外延生長(MOVPE)
7-3 液相外延生長(LPE)
7-4 分子束外延生長(MBE)
7-5 化學束外延生長(CBE)
7-6 其他外延生長技術
第8章 Ⅲ-Ⅴ族多元化合物半導體
8-1 異質結與晶格失配
8-2 GaAlAs外延生長
8-3 InGaN外延生長
8-4 InGaAsP外延生長
8-5 超晶格與量子阱
8-6 應變超晶格
8-7 能帶工程
第9章 Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體
9-1 Ⅱ-Ⅵ族化合物單晶材料的製備
9-2 Ⅱ-Ⅵ族化合物的點缺陷與自補償現象
9-3 Ⅱ-Ⅵ族多元化合物材料
9-4 Ⅱ-Ⅵ族超晶格材料
第10章 氧化物半導體材料
10-1 氧化物半導體材料的製備
10-2 氧化物半導體材料的電學性質
10-3 氧化物半導體材料的套用
第11章 其他半導體材料
11-1 窄帶隙半導體
11-2 黃銅礦型半導體
11-3 納米晶材料
11-4 非晶態半導體材料
11-5 有機半導體材料
參考文獻