半導體光致發光成像分析系統

半導體光致發光成像分析系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2016年6月22日啟用。

基本介紹

• 中文名：半導體光致發光成像分析系統
• 產地：匈牙利
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2016年6月22日
• 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 光譜成像儀

技術指標

全自動，檢測速度快（＞3600wfr/h）,圖像質量好，低噪聲，高解析度，可用少子壽命檢測標定，可檢測矽片、電池片成品或半成品。

主要功能

對矽塊、矽片、絨面、擴散、刻蝕、電極印刷、電池片等各工藝進行檢測。