《半導體光催化劑的設計、製備及表征》是化學工業出版社於2021年出版的書籍，作者是張少鋒。
基本介紹
- 書名：半導體光催化劑的設計、製備及表征
- 作者：張少鋒
- 出版社：化學工業出版社
- 出版時間：2021年11月1日
- 頁數：144 頁
- 開本：32 開
- 裝幀：平裝
- ISBN：9787122403261
內容簡介,目錄,
內容簡介
本書是在國內外有關研究的基礎上，結合作者多年來對半導體光催化劑的研究成果編寫而成，系統介紹了光催化劑的設計及製備方法，同時對能級結構對半導體光催化劑催化活性的影響進行了探討，為設計製造新型高效光催化劑給予了一定的理論指導。本書共分為9 章，主要內容包括：光催化物理基礎；光催化技術基礎和光催化劑的設計；半導體光催化劑的製備和表征；多孔納米光催化劑、貴金屬複合光催化劑、Ⅱ型異質結光催化劑和Z 型異質結光催化劑的製備、表征和性能分析。 本書可供光催化領域的科研技術人員學習使用，也可供高等院校相關專業師生參考。
目錄
第1章 光催化物理基礎 1
1.1 半導體的電子特性 2
1.2 半導體的晶體結構 2
1.3 半導體的能帶結構和光學特性 4
1.4 半導體載流子統計 6
參考文獻 8
第2章 光催化技術概述 9
2.1 光催化基本原理 10
2.2 影響光催化反應效率的主要因素 12
2.3 光催化技術套用 14
2.3.1 光催化技術在環境方面的套用 14
2.3.2 光催化技術在能源方面的套用 15
參考文獻 19
第3章 光催化劑的設計 23
3.1 增強光吸收效率 24
3.1.1 能帶調控 25
3.1.2 貴金屬修飾 27
3.1.3 有機染料敏化 30
3.1.4 窄帶隙半導體修飾 31
3.2 促進光生載流子分離、傳輸效率 32
3.2.1 貴金屬沉積 32
3.2.2 異質結構築 35
3.2.3 助催化劑引入 38
參考文獻 39
第4章 光催化劑的製備 45
4.1 磁控濺射法 46
4.2 化學氣相沉積法 47
4.3 溶膠-凝膠法 48
4.4 微乳液法 49
4.5 水/溶劑熱法 51
參考文獻 52
第5章 納米光催化劑的表征 55
5.1 掃描電子顯微鏡 56
5.2 透射電子顯微鏡 58
5.2.1 成像原理 59
5.2.2 成像模式 60
5.3 X射線衍射 64
5.4 X射線光電子能譜 66
5.5 紫外-可見分光光度計 68
5.5.1 紫外-可見吸收光譜 68
5.5.2 紫外-可見漫反射光譜 69
5.6 BET比表面積測定 71
參考文獻 71
第6章 介孔ZnO光催化劑的製備及催化性能研究 78
6.1 介孔ZnO納米結構的研究現狀 79
6.2 介孔ZnO納米結構的製備及表征 80
6.3 本章小結 94
參考文獻 94
第7章 Au/SnO2核殼結構光催化劑的製備及催化性能研究 98
7.1 Au/SnO2核殼結構光催化劑的研究現狀 99
7.2 Au/SnO2核殼結構光催化劑的製備及表征 99
7.3 本章小結 111
參考文獻 112
第8章 ZnO/TiO2複合光催化劑的製備及催化性能研究 115
8.1 ZnO/TiO2複合光催化劑的研究現狀 116
8.2 ZnO/TiO2複合光催化劑的製備及表征 119
8.3 本章小結 129
參考文獻 130
第9章 TiO2/g-C3N4複合光催化劑的製備及催化性能研究 133
9.1 TiO2/g-C3N4複合光催化劑的研究現狀 134
9.2 TiO2/g-C3N4複合光催化劑的製備與表征 135
9.3 本章小結 144
