基本介紹
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在簡要介紹光催化發展歷史、基本原理和研究方法的基礎上，偏重光催化材料的設計思路和策略，對常規TiO2、ZnO等光催化劑及其修飾改性材料、BiVO4等新型半導體光催化劑、鈦基一維氧化鈦等光催化環境淨化材料的研究與製備技術進行了詳細介紹；並從材料結構表征、理論計算、光電化學機理分析等角度分析了高效光催化材料的性能調控機制；進一步結合光催化環境淨化材料的發展趨勢和套用，闡述了光催化水體淨化和空氣淨化技術以及自潔淨表面技術的產業現狀和發展前景。《環境光催化材料與光催化淨化技術》可以作為高等院校或研究機構的化學、材料、環境專業和相關學科學生的課外讀物，或者相關專業科研和技術人員的參考資料。
內容簡介
本基於作者課題的研究成果，闡述了光催化環境淨化材料的研究方法、理論基礎和設計策略，結合環境淨化技術的研究方向和套用發展趨勢，介紹了水、空氣光催化淨化和自潔淨表面的套用狀況和發展前景。《環境光催化材料與光催化淨化技術》在內容上密切聯繫光催化發展的前沿，同時描述了光催化環境淨化技術的工業套用全貌和前景。
本書可作為高等學校化學、材料、環境等專業和相關學科學生的課外讀物，也可作相關科技人員的參考資料。
目錄
第1章 光催化基礎
1.1 光催化和光催化劑
1.2 半導體光催化發展歷史
1.3 半導體光催化基本原理
1.3.1 半導體光催化反應過程
1.3.2 影響光催化活性的內因
1.3.3 光催化反應中的活性物質
1.4 環境淨化光催化新材料的設計基礎
1.4.1 基於電子能帶結構設計的光催化劑
1.4.2 固溶體結構可見光回響光催化劑
1.4.3 基於微觀結構設計的可見光回響光催化劑
參考文獻
第2章 光催化材料的結構表征與測試技術
2.1 結構分析
2.1.1 X射線衍射(XRD)
