化學氣相沉積是一種常見的化學制粉方法。通過某種化學方法使氣相物質發生氣—固相變或氣相化學反應,生成金屬或陶瓷粉體稱為化學氣相沉積。
中文名稱 | 化學氣相沉積法制粉 |
英文名稱 | chemical vapor deposition process for making powder,CVD process for making powder |
定 義 | 利用化學氣相沉積工藝制粉的方法。 |
套用學科 | 材料科學技術(一級學科),無機非金屬材料(二級學科),陶瓷(三級學科),陶瓷材料工藝(四級學科) |
化學氣相沉積是一種常見的化學制粉方法。通過某種化學方法使氣相物質發生氣—固相變或氣相化學反應,生成金屬或陶瓷粉體稱為化學氣相沉積。
中文名稱 | 化學氣相沉積法制粉 |
英文名稱 | chemical vapor deposition process for making powder,CVD process for making powder |
定 義 | 利用化學氣相沉積工藝制粉的方法。 |
套用學科 | 材料科學技術(一級學科),無機非金屬材料(二級學科),陶瓷(三級學科),陶瓷材料工藝(四級學科) |
化學氣相沉積是一種常見的化學制粉方法。通過某種化學方法使氣相物質發生氣—固相變或氣相化學反應,生成金屬或陶瓷粉體稱為化學氣相沉積。...
化學氣相沉積制粉法是利用揮發性金屬化合物蒸氣分解或與其他氣體間的化學反應獲得超細粉末的一種粉末製取方法。...
化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成塗層或納米材料的方法,是半導體工業中套用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術,包括大範圍的絕緣材料,大多數...
CVD是Chemical Vapor Deposition的簡稱,是指高溫下的氣相反應,例如,金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解,氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出...
1 化學氣相沉積CVD 2 液相沉積法 化學沉積具有化學氣相沉積和液相沉積兩種模式。[1] 化學沉積化學氣相沉積CVD (Chemical Vapor Deposition)是利用加熱,電漿激勵或...
全書共7章。介紹了超細粉的發展、超細粉的理論研究和超細粉的物理化學特性,氣體蒸發法、化學氣相沉積法(CVD法)、濺射法、微波合成法、燃燒合成法、機械合金化法、...
實驗7機械合金法原位合成二矽化鉬粉和鈦鋁合金粉 實驗8溶膠?凝膠法製備氧化矽...實驗31化學氣相沉積製備氧化鋅納米線 實驗32鹼顯影耐高溫酚醛環氧丙烯酸酯/馬來酸酐...
3.8.3 化學氣相沉積法3.8.4 液相沉澱法3.9 電解法3.10 特種粉末製取方法的選擇參考文獻第4章 特種粉體深度製備4.1 特種粉體粒度分級...
14)趙乃勤,王穎,以鎳/鈦催化劑原位化學氣相沉積法製備碳納米管的方 , 2008.5.28申請,2008.10.8公開。15)趙乃勤,劉遠,師春生,李海鵬,杜希文,氣相沉積原位反應...
粉末冶金包括制粉和製品。其中制粉主要是冶金過程,和字面吻合。而粉末冶金製品則...氫還原法;從氣態金屬鹵化物沉積製取金屬化合物粉末以及塗層的有化學氣相沉積法。...
矽化石墨矽化石墨製法 編輯 矽化石墨的生產方法有化學氣相沉積法(CVD),化學氣相反應法(CVR)及液矽滲透反應法等3種方法。矽化石墨化學氣相沉積(CVD))法 ...
方法為機械剝離法、氧化還原法、SiC外延生長法,薄膜生產方法為化學氣相沉積法(...通過物理剝離、高溫膨脹等方法對氧化石墨粉體進行剝離,製得氧化石墨烯。最後通過...
電漿增強化學氣相沉積技術在溫度相對較低的真空條件下進行。氮化...反應燒結法是將矽粉或矽粉與氮化矽粉的混合料按一般陶瓷製品生產方法成型。然後...
無機化合物為原料,在嚴格控制的條件下經成型、燒結和其他處理而製成具有微細...也可用化學氣相沉積法,使SiCl4和N2在H2氣氛保護下反應,產物Si3N4積在石墨基體...
定向凝固法、化學氣相沉積法、低溫固相合成法、熱壓燒結法、自蔓延高溫合成法、...實驗47粉煤灰制泡沫玻璃和加氣混凝土砌塊137 實驗48玻璃空心磚的設計與高溫製備...
該法工藝簡單但易帶入雜質.粉料特性難以控制,製備效率低且粒徑分布較寬。(2)化學法化學法可製得純淨且粒徑分布均勻的超細SiO2顆粒。化學法包括化學氣相沉積(CVD...
電子級的氮化矽薄膜是通過化學氣相沉積或者電漿增強化學氣相沉積技術製造的:...但由於需要添加粘合劑或燒結助劑,所以這種方法會在制出的塊狀材料中引入雜質。...
《材料合成與製備》的作者是喬英傑。《材料合成與製備》共10章,主要內容包括溶膠一凝膠合成、水熱/溶劑熱合成、電解合成、定向凝固工藝、化學氣相沉積、低溫固相合成...