全自動勻膠顯影系統

全自動勻膠顯影系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2019年12月5日啟用。

基本介紹

• 中文名：全自動勻膠顯影系統
• 產地：日本
• 學科領域：信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2019年12月5日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

襯底支持：4英寸，6英寸基片。7個可獨立進行控溫的熱板，高精度熱板溫度精度+/-0.2℃。勻膠單元每個Cup配置4條光刻膠管路，具備背洗、邊緣清洗功能。顯影單元每個Cup配置1條顯影液管路，具備獨立清洗管路。自帶廢液回收裝置。勻膠均勻性：片內（Wafer in 6inch）≤ 3%；顯影均勻性：片內（Wafer in 6inch）≤ 5%。

主要功能

設備能支持130nm工藝技術，與光刻機相連作業，完成全自動光刻。系統包括2個勻膠單元、2個顯影單元、7個熱處理單元，可實現全自動勻膠、顯影及烘烤工藝操作。