光機偏差,光軸與機械軸的夾角(銳角)。
基本介紹
- 中文名:光機偏差
- 外文名:optical-mechanical axis non-parallelism
光機偏差,光軸與機械軸的夾角(銳角)。
光機偏差,光軸與機械軸的夾角(銳角)。【光機偏差】optical-mechanical axis non-parallelism光機偏差只引起方位角誤差。機械軸是看不見、摸不著的,其指向只能通過特定的數學方法來獲取。光機...
《光機約束方程原理及其套用》是2021年5月國防工業出版社出版的圖書,作者是(美)愛爾森·E.漢瑟維。內容簡介 《光機約束方程原理及其套用》作者在光機系統領域有著非常高深的造詣,光機約束方程原理是作者在光機設計方面新研究成果的總結。書中主要內容包括光學函式基礎知識、光學影響函式、光機約束方程原理、光機約束...
《複雜產品裝配偏差源累積分析與裝配精度預測技術研究》是依託華南理工大學,由劉偉東擔任項目負責人的青年科學基金項目。項目摘要 裝配精度主要包括零部件尺寸精度、形位精度和相互位置精度等,裝配精度的高低直接影響產品的質量和性能。隨著航空、航天等複雜產品朝著小型化、輕量化、精密化和光機電一體化方向發展,裝配...
缺點是重量重、攝像頭光路複雜。測量船塢內標校時,先用望遠鏡瞄方位標得到以機械軸為基準的方位零位和以望遠鏡光軸為基準的俯仰零位及望遠鏡光軸與機械軸的不平行度(光機偏差),然後用標校電視光軸與望遠鏡光軸的不平行度,折算出以標校電視光軸為基準的俯仰零位和光機偏差,最後再通過光電偏差將電軸聯繫起來。
反向法 反向法,反向法光學系統常稱正倒鏡法。【反向法】reverse measuring method 在測量設備系統誤差檢測中,反向法(正倒鏡法)是一種常用的方法,它具有精度高、方法簡便的優點。塢內標校中無線電測量設備方位零值、俯仰零值、光機偏差、重力下垂誤差及標校經緯儀的俯仰零值、照準差、橫軸差等均採用該方法標定。
本書在內容的編寫上側重理論知識及通用性,可作為高等院校儀器類、機電類、光機類專業本科生和專科生教材,也可供有關生產部門工程技術人員參考。圖書目錄 第1部分誤差理論部分 第1章誤差和精度的基本概念 1.1誤差 1.1.1研究誤差的重要意義 1.1.2誤差的定義及其來源 1.1.3誤差的表示方法 1.1.4誤差的分類 ...
5.2.2 望遠鏡、標校電視光機偏差檢測 ……第6章 海上標校技術 第7章 標校成果分析與使用 第8章 標校技術研究與探索 下篇 校飛技術 第9章 校飛綜述 第10章 衛星導航精度鑑定系統 第11章 校飛飛機 第12章 海上性能校飛技術 第13章 海上精度校飛技術 第14章 碼頭精度校飛技術 第15章 校飛數據處理...
對準是指測定晶圓上參考層圖形的位置並調整曝光系統,使當前曝光的圖形與晶圓上的圖形精確重疊的過程。對準操作是由光刻機中的對準系統來完成的。而套刻誤差則是衡量對準好壞的參數,它直接定量描述當前層與參考層之間的位置偏差。套刻誤差由專用測量設備測量得到。導致套刻誤差的主要原因 導致曝光圖形與參考圖形對準...
掩模放置誤差是指掩模之間圖形的對準偏差。顯然,掩模放置誤差直接影響到晶圓上的套刻誤差。產生原因 縮小掩模放置誤差的工作主要集中在兩個方面:一是能精確測量掩模之間的放置誤差,或者叫套刻誤差;二是根據測量的放置誤差對曝光工藝做修正,使得修正後的放置誤差減小。一種測量和修正系統工作流程由Zeiss提出的,被稱...
在掩模製備時,同一個產品的不同掩模之間的圖形應該是對準的,但在實際情況下,這些圖形之間是有偏差的,這些掩模圖形之間的偏差被稱為放置誤差(placement error)。簡介 放置誤差直接影響到晶圓上圖形之間的套刻誤差。ASML提出一種新的方法,可以用來減少掩模放置誤差對晶圓套刻誤差的影響。該方法使用一台離線的掩模...
圖像識別套刻誤差是指在積體電路製造工藝中,通過圖像識別技術比較不同工藝層上套刻標記位置偏差從而確定工藝層之間相對位移的方法。圖像識別套刻誤差是積體電路製造工藝光刻技術中主要使用的套刻誤差量測手段之一。利用掩模版完成一道光刻層的圖形轉移後,通過下一張掩模版上的對準標記使得前後兩道版圖圖案能按照設計實現...
基本含義是指前後兩道光刻工序之間彼此圖形的對準精度,如果對準的偏差過大,就會直接影響產品的良率。曝光寬容度 曝光寬容度(Exposure Latitude):曝光寬容度也被稱為曝光裕度,是工藝視窗的重要參數之一,光學曝光系統可以形成符合設計版圖要求的曝光能量範圍,通常使用曝光結果檢測的CD值的變化量在±10%範圍內的曝光能量...