光柵掃描

光柵掃描是被用在第一代電子束光刻（EBL）系統中，它是直接由掃描電子顯微鏡演變而來的。

基本介紹

• 中文名：光柵掃描
• 釋義：是被用在第一代電子束光刻（EBL）系統中，它是直接由掃描電子顯微鏡演變而來的

光柵掃描被用在第一代電子束光刻（EBL）系統中，它是直接由掃描電子顯微鏡演變而來的。在典型的系統中，電子束首先通過一對留有間隔的板，它可使電子束偏轉而被截斷。第二對板用來在一個方向上掃描電子束。同時，承片台用機械方式在垂直於電子束掃描的方向上掃描。將需要進行掃描的面積劃分成一些廠區，其邊長從100μm到幾十個毫米。如果每一個像素都曝光，掃描軌跡就被定義為電子束走過的路程。數據被分解為點陣圖，它依照掃描軌跡按順序組成。為改善邊緣解析度，典型的電子束斑的大小是最小特徵尺寸的二分之一到五分之一，並採用多路徑通過每一個曝光區。

在光柵掃描方法中，每一個像素必須被逐次掃描。這樣曝光時間幾乎與圖形無關，圖形就是通過打開和關閉快門而寫出來的。