光敏高分子成像材料是是一類在光照下發生光敏聚合或光敏降解的高分子材料。 基本介紹 中文名：光敏高分子成像材料外文名：photo-sensitive polymeric image material詞性：名詞類別：材料 photo-sensitive polymeric image material是一類在光照下發生光敏聚合或光敏降解的高分子材料。利用曝光與未曝光部分的化學和物理性質的不同，再經進一步的加工過程(定影、顯影)，在基體上得到與原圖相同的正像或負像的影像結構。是非銀鹽成像材料的一個重要品種。通常由一種或多種光活性化合物和高分子成膜材料構成。負像成像用光敏聚合及光敏交聯法，如自由基光聚合和光引發的陽離子聚合。正性成像則是使曝光部分有更好溶解度，光解產物容易被洗去。另一方法是光敏降解，採用的是丙烯酸酯類及其共聚物。已用於大規模積體電路的製作，光刻制板印刷、可讀寫式光碟等。
