光掩模的背景和功能圖形的透光性，掩模版背景透光的定義為正性，不透光定義為負性。
基本介紹
定義,原理,特點介紹,套用,
定義
功能圖形不透明的掩模稱之為正性掩模，功能圖形透明的掩模稱之為負性掩模。這裡定義的掩模版極性是根據早期常用的乳膠版工藝特點命名的，因為乳膠板正常曝光和顯影后，曝光圖形區域為不透明，未曝光的背景區域是透明的，故稱之為正性。
原理
在製備掩模版時，需要仔細考慮幾種因素，確定掩模版的正向、反向、正性和負性的問題：①製造掩模版的設備默認的曝光圖形方向；②製造掩模版的用途；③製備掩模版使用的鉻版上塗的抗蝕劑是正性還是負性；④光刻工藝中採用的是正膠還是負膠。
特點介紹
掩模版除了有數據的透明還是不透明的極性區別外，還有掩模版上製備的圖形方向相對與設計圖紙上是正向還是反向的區別。由於掩模版在光刻中不論是接觸式還是投影式，鉻膜都是朝下的，所以規定鉻膜朝下看掩模版圖形方向與設計底圖等同時，稱之為正向掩模版。反之，稱為負向掩模版。
