光學顯影是在光阻上經過曝光和顯影的程式,把光罩上的圖形轉換到光阻 下面的薄膜層或矽晶上。光學顯影主要包含了光阻塗布、烘烤、光罩對準、 曝光和顯影等程式。小尺寸之顯像解析度,更在 IC 製程的進步上,扮演著 最關鍵的角色。由於光學上的需要,此段製程之照明採用偏黃色的可見光。因此俗稱此區為 黃光區。
光學顯影是在光阻上經過曝光和顯影的程式,把光罩上的圖形轉換到光阻 下面的薄膜層或矽晶上。光學顯影主要包含了光阻塗布、烘烤、光罩對準、 曝光和顯影等程式。...
顯影是在印刷、影印、複印、曬圖等行業中,讓影像顯現的一個過程。顯影包括正顯影和反轉顯影。正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性,與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是...
用於193nm光刻的多數光刻膠是正性膠。然而,隨著半導體工藝節點的不斷縮小,使用傳統的正膠以鹼性水溶液顯影液來印刷小特徵例如小尺寸的溝槽和通孔已經變得更具挑戰...
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