《光學非球面的磁射流拋光技術研究》是依託中國人民解放軍國防科技大學，由戴一帆擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：光學非球面的磁射流拋光技術研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：戴一帆
- 依託單位：中國人民解放軍國防科技大學
- 負責人職稱：教授
- 申請代碼：E0509
- 研究期限：2004-01-01 至 2006-12-31
- 批准號：50375156
- 支持經費：24（萬元）
中文摘要
磁射流拋光技術MJP屬確定性光學零件加工範疇，是在小工具CCOS拋光、磁流變拋光和離子束拋光等加榆灶拘工方法發展的基礎上提出的。該方法在繼承已有確定性加工方法優點的同時，利才槳櫃汽用磁流體噴射技術，得到完全柔性，具有近似紙酷高斯去除函式分布的小拋光模，能夠較好解決確定性加工技術發展過程中難以建立理想拋光模的障礙。特別是該方法除普通非球面鏡外還可用於大口徑和高陡度光學非球面零件加工，極大地拓展了已有確定性光學零榜船阿獄件加工的套用範圍。課題研究磁射流形成機理，特別是磁流變液射流束膠拒夜在集束磁場作用下的物理特性變化，為射流拋光模的建立提供科學依據。研究具有高斯分布的拋光模形成條件，並在試驗基礎上想體嫌，建立去除函式，尋求較為理想的拋光模，以使漿戶提確定性加工方法獲得進一步發展。
