光學薄膜鍍膜系統

光學薄膜鍍膜系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2018年10月9日啟用。

基本介紹

• 中文名：光學薄膜鍍膜系統
• 產地：日本
• 學科領域：信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2018年10月9日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

5個獨立腔室：濺射室x2/清洗室x1/進樣室x1/傳遞室x1; 濺射室真空度：≤3x10-5Pa，清洗室真空度：≤1x10-4Pa 進樣室、傳遞室真空度：≤8x10-5Pa; 8英寸濺射靶； 6英寸樣品工位（水冷）；6英寸範圍內薄膜厚度均勻性優於±10%。

主要功能

具備原位離子束清洗，原位氧化功能，可實現Nb、Al薄膜及多層膜生長。