光學薄膜材料的理論與實踐

內容簡介

對於任何光學系統來說，光學薄膜，即由一定數量的單獨膜層所構成的多層膜堆疊，都是實現光學表面特性裁剪所必不可少的組成部分。而光學薄膜的性能則取決於各層薄膜的材料以及定義膜系排布的幾何參數（如膜厚）這二者之間是否取得良好的平衡關係。

在所有面向光學薄膜性能的科學書籍中，都主要關注於如何最佳化薄膜的幾何參數，特別是膜層的數量和每個膜層的厚度。但同時卻對薄膜設計中所存在的另一種自由度關注甚少，而這種自由度能夠使我們獲得面向給定的指標進行最佳化並對光學材料特性實現量身定製的可能性。因此，與其他相關的參考書籍不同，《光學薄膜材料的理論與實踐》的重點在於介紹與薄膜光學性能相關的材料方面的問題。

《光學薄膜材料的理論與實踐》在全面地評述了薄膜理論的基礎、傳統光學鍍膜材料的特性，以及這些特性之間的關聯等因素對薄膜設計方法的效率所產生的影響之後，重點介紹了將材料混合物與納米結構套用於光學薄膜的理論與實踐中所獲得的*新成果，其中包括多孔膜層、介質混合物，以及面向不同套用的金屬島狀薄膜。

圖書目錄

第1章引言

1．1概述

1．2薄膜物理與固體物理

1．3小議光學薄膜製備

1．3．1PVD和CVD技術

1．3．2關於PIAD的一些考慮

1．3．3睜性關聯

1．4本書的內容與組織結構

參考文獻

第一部分基礎篇

第2章光學常數的基本知識

2．1線性光學的基本經典色散模型

2．2介電函式的解析性質

2．3經典圖像下的光學常數與質量密度

2．4經常用於薄膜表徵實踐的其他色散模型：經典以及高級模型

2．4．1基本評述

2．4．2Brendel模型

2．4．3Tauc—Lorent，z模型

2．4．4Cody—Lorentz模型

2．4．5ForouhiBloomer、模型

2．5材料混合物

2．5．1總體思路

2．5．2MaxwellGarnett（MG）方法

2．5．3Lorentz-Lorenz（LL）方法

2．5．4等效介質近似（EHA）或Bruggeman方法

2．5．5基於MaxwellGarnett（HG）方法的一個模型計算

參考文獻

第3章平面界面

3．1菲涅耳公式

3．2真實的薄膜，真實的表面

3．2．1一些試驗結果

3．2．2光學各向同性評述

3．2．3光學不均勻性評述

3．2．4表面粗糙度評述

3．3突變界面與連續形貌的對比

3．4強度係數

參考文獻

第4章薄膜、基底和多層膜

4．1單層膜

4．1．1通用方程

4．1．2半波長膜層

4．1．31/4波長膜層

光學薄膜材料的理論與實踐

基本介紹

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