光學水印防偽技術條件

《光學水印防偽技術條件》是2012年5月1日實施的一項中國國家標準。

基本介紹

• 中文名：光學水印防偽技術條件
• 外文名：Technical requirements of optical watermark anti-counterfeit
• 標準號：GB/T 27755-2011
• 標準類別：產品

編制進程

2011年12月30日，《光學水印防偽技術條件》發布。

2012年5月1日，《光學水印防偽技術條件》實施。

起草工作

主要起草單位：中國防偽行業協會、北京益高亞太信息技術有限公司、深圳市三森科技有限公司、北京舜天龍興信息技術有限公司、深圳九星印刷包裝集團有限公司。

主要起草人：陳錫蓉、解鵬、劉顯章、姜時中、吳偉軍、曾侃等。