光化學腐蝕

在器件表面塗以感光樹脂，增感劑，抗蝕劑等，利用光照後樹脂溶解性的顯著變化，對光照區進行控制，使表面得到所需圖像的一種方法，又稱光刻。

基本介紹

• 中文名：光化學腐蝕
• 外文名：photochemical etching
• 用途：電子工業等
• 別稱：光刻

概述

光化學腐蝕 photochemical etching

光化學腐蝕生產的鐳射標貼

具體方法

光化學腐蝕處理中，感光後用溶劑將不需要的抗蝕劑除去，將具有一定圖形的塗層進行固化，再用腐蝕劑對加工的材料進行保護性腐蝕。一般有兩類：一為塗層曝光顯影后，曝光部分溶解，未曝光部分留下；另一為未曝光部分溶解，曝光部分留下。

用途

目前，光化學腐蝕方法在電子工業中被廣泛利用，如積體電路的製造等。