光化學燒孔p二〔}uxhcmicaL specmai holc" hurui工y化合物的寬吸收帶足靜電的、熱力學的和分子I切相互作用所造成的，這些相互作用也可能是品體缺陷，也。r能是濟質一溶劑之I }J的相互4i用，因此，客觀卜的吸收帶是山那些所有相互作用狀態的均相吸收帶疊Ju iii成為I}均相吸收帶。當1l!一束雷射照射樣品時，那些吸收帶覆蓋該雷射波長的分子在吸收了雷射能量後發生光化學反應，造成在該波長下的}W玫值下降，即在光譜{形成個“燒孔”，這稱為光化學燒孔這種光譜燒孔在低溫r=(C5K)ij具有較長壽命。可以觀察Ytl染料光6}u-燒孔的光化學反應通常是質子化互變異構反應〔比如非金屬酞著、葉琳和葉綠素類)、氫鍵異構化(比如1,4一二氫蔥醒)等在無光化學反應的情況l，有+"r也}7觀察到光譜燒孔，比如，在站噸類染料和嗯嗦染料中的主一客體相互作用導致構型變化是其光v燒孔現象的起因、光i燒孔是作為潛在的高密度信息存儲手段之一，口前需要解決的主要關鍵問題是如何提高光譜燒孔溫度二
