光刻膠處理系統

光刻膠處理系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2013年8月9日啟用。

基本介紹

• 中文名：光刻膠處理系統
• 產地：德國
• 學科領域：信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2013年8月9日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

可支持襯底尺寸：2”、 4”、6”晶圓，20mm、40mm、50mm等方形基片；勻膠模組：每個Cup至少配置3條光刻膠管路，具備背洗功能，具備邊緣清洗功能；顯影模組：每個Cup至少配置3條顯影液管路，具備獨立清洗管路；熱板模組：4個可獨立進行控溫的熱板，熱板最高溫度200oC，熱板溫度均勻性優於正負1%；工藝指標：勻膠片內均勻性≤ 3%（4英寸範圍），顯影片內均勻性≤ 5%（4英寸範圍）。

主要功能

系統包括1個勻膠單元、1個顯影單元、1個熱處理單元，1個盒站單元模組，1個傳片單元，可實現自動勻膠、顯影及烘烤工藝操作。具備處理HMDS能力， 自帶廢液回收等功能。