基本介紹
- 中文名:光刻膠輸送系統
- 外文名:Photoresist conveying system
圖1是光刻膠輸送系統示意圖。N2保持膠瓶內有一定的壓力。膠從膠瓶中先流到一個緩衝容器中,經過過濾器,由膠泵抽到噴嘴噴出。噴膠的容量由膠泵設定。除此之外,系統還要保證不間斷供膠、不產生氣泡、易於清洗與易於更換配件等。實際系統的設計比較複雜,還包括一系列的電磁閥(selenoid valve)、壓力控制管線等。。
光刻膠輸送系統負責把光刻膠從膠瓶抽出來,沿管道輸送到噴嘴,並按設定好的容量噴淋到晶圓上。圖1是光刻膠輸送系統示意圖。N2保持膠瓶內有一定的壓力。膠從膠瓶中先流到一個緩衝容器中,經過過濾器,由膠泵抽到噴嘴噴出。噴膠的容量由...
塗膠單元不僅僅局限於光刻膠的旋塗,也可以用於旋塗抗反射塗層和193nm浸沒式光刻的防水頂蓋塗層(topcoat)。轉台用來放置晶圓,幾個噴嘴用來供應光刻膠和各種有機溶劑,每一個噴嘴對應一種材料,並有專用的管路和膠泵。有機溶劑用來沖洗晶圓表面使之濕潤,以後隨後的光刻膠塗布,系統必須對轉台的轉速控制得極為準確...
7.1.2熱板子系統 7.1.3顯影子系統 7.2光刻膠的容器類型(Nowpak和玻璃瓶)、輸送管道和輸送泵 7.3顯影后沖洗設備(含氮氣噴頭的先進缺陷去除ADR沖洗設備)7.4光刻設備使用的各種過濾器 思考題 引文 第8章光刻工藝的測量設備 8.1線寬掃描電子顯微鏡的原理和基本結構(電子光學系統的基本參數)8.2線寬掃描電子...