倒置螢光顯微成像系統

倒置螢光顯微成像系統是一種用於材料科學、化學工程領域的分析儀器，於2016年12月26日啟用。

基本介紹

• 中文名：倒置螢光顯微成像系統
• 產地：日本
• 學科領域：材料科學、化學工程
• 啟用日期：2016年12月26日
• 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 圖像分析儀

技術指標

高分辨極弱螢光相機；1600萬以上純物理點像素,非圖像位移成像；感光度ISO:200-12800；超高靈敏度感光度：單色ISO＞50000；一次性成像技術；高清解析度：200萬像素(1920 x 1080) resolutio，像素大小：11um x 11um晶片大小：21.1 x 11.9 mm2 / 24.2 mm（HD）。

主要功能

具有明場、相差、螢光功能；時間延遲成像，錄像，LUTS 等功能。