中國電子科技集團公司第十二研究所（北京真空電子技術研究所）成立於1956年，位於北京市朝陽區酒仙橋地區，毗鄰首都機場高速公路，距首都機場15公里。該所主要從事超高頻真空器件、微波、雷射、精密加工等技術的研究，在國防軍工領域有著舉足輕重的作用
基本介紹
- 中文名：中國電子科技集團公司第十二研究所
- 簡稱：北京真空電子技術研究所
- 創辦時間：1956年
- 類別：高新技術企業
- 規模：在職職工1000餘人
- 所長：王濤
- 主營業務：從事電真空器件的研製生產
簡介,產品及服務,規模,
簡介
在完成國家下達的各項任務的同時，研究所充分發揮綜合技術優勢，在軍轉民方面先後開發了醫療電子、光機電一體化等民用電子產品，並與國內外一些公司、大學和產業集團建立了良好的科技貿易合作關係。
產品及服務
北京真空電子技術研究所位於北京中關村一園五區之一的東郊電子城科技園區內，是一個以真空電子技術為主的大型綜合性研究所,所區占地面積224000平方米，建築面積183000平方米，是我國真空微波電子器件主要研發基地之一。
本所研究領域為大功率微波和毫米波真空器件、真空微電子技術、真空技術與表面物理、彩色顯像管技術、氣體雷射、電子陶瓷、醫療電子設備、非標設備。產品已廣泛的套用於雷達、電子對抗、通訊、導航、微波醫療、測量設備等領域。北京真空電子技術研究所為我國的重點工程建設不斷做出重要貢獻，在我國的核試驗、人造衛星發射、運載火箭、測量船等尖端科學領域發揮了重要的作用。共獲得科研成果 700餘項，其中國家級成果獎50餘項，部級成果獎160餘項。通過了ISO9001質量管理體系認證。
規模
北京真空電子技術研究所現有在職職工1200餘人，其中科技人員近800人，中高級職稱占 60 %，已完成新老交替，形成了以中青年技術骨幹為主，老中青相結合的科研隊伍，北京真空電子技術研究所是教育部首批批准的有權授予博士學位和碩士學位的單位。
