《三氧化鎢光催化劑製備及套用》是2013年化學工業出版社出版的圖書，作者是崔玉民。
基本介紹
- 書名：三氧化鎢光催化劑製備及套用
- 作者：崔玉民
- ISBN：9787122152749
- 頁數：169
- 定價：48.00元
- 出版社：化學工業出版社
- 出版時間：2013-1
內容簡介,編輯推薦,目錄,
內容簡介
《三氧化鎢光催化劑製備及套用》從光催化原理出發，介紹了三氧化鎢光催化劑的製備及其在複合、摻雜等條件下光催化性能的變化，還介紹了三氧化鎢光催化劑在染料、造紙等有機污染物處理方面的套用，對於從事光催化材料及相關套用領域的技術人員有很好的參考價值。
編輯推薦
《三氧化鎢光催化劑製備及套用》第1章闡述了光催化技術發展過程；第2章主要闡述光催化反應原理；第3章著重闡述三氧化鎢光催化劑製備方法；第4章講述複合半導體光催化劑；第5章講述金屬離子摻雜光催化劑;第6章講述三氧化鎢光催化劑套用。本書是筆者根據多年從事光催化技術科研和教學經驗，並參考國內外該領域的眾多科研論文及圖書資料編著而成。本書由崔玉民、李慧泉、張坤著。
目錄
第1章 緒論
參考文獻
第2章 光催化反應原理
2.1光化學基本原理
2.1.1光化學反應
2.1.2電子躍遷
2.2半導體光催化反應理論
2.2.1半導體光催化的理論基礎
2.2.2光催化反應熱力學分析
2.2.3光催化反應動力學分析
2.2.4光催化反應機理
參考文獻
第3章 三氧化鎢的製備方法
3.1普通WO3的製備方法
3.1.1普通WO3的製備方法
3.1.2普通法所得WO3的表征
3.2高活性WO3的製備方法
3.2.1固相法
3.2.2液相法
3.2.3氣相法
3.2.4超聲化學法
3.3製備WO3其他方法
參考文獻
第4章 複合半導體光催化劑
4.1半導體複合意義
4.2半導體複合類型
4.2.1半導體-半導體複合
4.2.2半導體-絕緣體複合
4.2.3複合半導體薄膜
4.3半導體複合方法
4.4半導體WO3/α-Fe2O3複合體系
4.4.1光催化反應機理
4.4.2比較光催化劑活性
4.4.3復相催化劑WO3/α-Fe2O3/W的組成與COD、色度去除率的關係
4.4.4復相光催化劑用量與COD、色度去除率的關係
4.4.5試液的pH值與COD、色度去除率的關係
4.4.6光照時間與COD、色度去除率的關係
4.5半導體WO3與稀土氧化物複合體系
4.5.1 WO3/CeO2複合體系
4.5.2 Y2O3/WO3複合體系
4.6半導體WO3與TiO2複合體系
4.6.1熱處理溫度對催化劑形貌及其光催化活性的影響
4.6.2 WO3/TiO2-NRs的物性
4.6.3 WO3/TiO2-NRs的光催化活性
4.7半導體WO3與CdS複合體系
4.7.1催化劑的組成與COD、色度去除率的關係
4.7.2復相催化劑用量與COD、色度去除率的關係
4.7.3試液的pH值與COD、色度去除率的關係
4.7.4光照時間與COD、色度去除率的關係
參考文獻
第5章 金屬離子摻雜光催化劑
5.1釔離子摻雜WO3光催化體系
5.1.1 Y3+摻雜WO3樣品的晶體結構
5.1.2摻雜樣品表面性質的XPS譜分析
5.1.3摻雜樣品的UV-Vis漫反射光譜性質
5.1.4光催化分解水析氧活性
5.2 La3+摻雜WO3光催化劑
5.2.1 La3+摻雜WO3的晶體結構
5.2.2 La3+摻雜WO3樣品光催化活性
5.3 Eu3+摻雜WO3光催化劑
5.3.1催化劑的表征
5.3.2銪摻雜對RB在WO3上吸附量的影響
5.3.3pH對光催化降解效率的影響
5.3.4銪摻雜對WO3光催化活性的影響
5.4 Tb3+摻雜WO3光催化劑
5.4.1 Tb3+/WO3光催化材料的結構表征
5.4.2 Tb3+摻雜對WO3光催化降解率的影響
5.4.3 Tb3+摻雜量對WO3光催化降解率的影響
5.4.4焙燒溫度對WO3光催化降解率的影響
5.4.5溶液pH值對Tb-WO3光催化降解率的影響
5.5 Dy摻雜WO3光催化劑
5.5.1光降解中間產物的色譜及質譜分析
5.5.2不同光照時間後RB的UV-Vis光譜
5.6 Gd和TiO2摻雜WO3光催化劑
5.6.1催化劑的表征
5.6.2 Gd、TiO2摻雜對RB在WO3上吸附量的影響
5.6.3 pH對WO3和Gd/TiO2/WO3光催化活性的影響
5.6.4 Gd、TiO2摻雜及其摻雜量對WO3光催化活性的影響
參考文獻
第6章 三氧化鎢光催化劑套用
6.1在處理無機污染物領域中的套用
6.1.1無機陰離子或氣體有害物質的降解
6.1.2金屬離子的光催化還原
6.1.3無機合成
6.2在處理有機污染物領域中的套用
6.2.1有機物的光催化降解
6.2.2光催化氧化降解染料廢水
6.2.3光催化氧化降解造紙廢水
6.2.4光催化氧化技術處理一般工業廢水
6.2.5光催化氧化技術處理滲濾液的研究
6.2.6光催化氧化技術降解水面有機污染物膜
6.2.7光敏劑協助光催化氧化法對處理廠的二級廢水進行消毒
6.2.8光催化有機合成
6.3在光解水制氫方面套用
6.3.1摻雜Ce的WO3樣品的晶體結構
6.3.2摻雜樣品表面性質的XPS譜分析
6.3.3摻雜樣品的UV-Vis漫反射光譜性質
6.3.4 WO3及不同Ce摻雜量WO3樣品的光致發光性質
6.3.5 Ce/WO3光解水析氧的催化活性
參考文獻
參考文獻
第2章 光催化反應原理
2.1光化學基本原理
2.1.1光化學反應
2.1.2電子躍遷
2.2半導體光催化反應理論
2.2.1半導體光催化的理論基礎
2.2.2光催化反應熱力學分析
2.2.3光催化反應動力學分析
2.2.4光催化反應機理
參考文獻
第3章 三氧化鎢的製備方法
3.1普通WO3的製備方法
3.1.1普通WO3的製備方法
3.1.2普通法所得WO3的表征
3.2高活性WO3的製備方法
3.2.1固相法
3.2.2液相法
3.2.3氣相法
3.2.4超聲化學法
3.3製備WO3其他方法
參考文獻
第4章 複合半導體光催化劑
4.1半導體複合意義
4.2半導體複合類型
4.2.1半導體-半導體複合
4.2.2半導體-絕緣體複合
4.2.3複合半導體薄膜
4.3半導體複合方法
4.4半導體WO3/α-Fe2O3複合體系
4.4.1光催化反應機理
4.4.2比較光催化劑活性
4.4.3復相催化劑WO3/α-Fe2O3/W的組成與COD、色度去除率的關係
4.4.4復相光催化劑用量與COD、色度去除率的關係
4.4.5試液的pH值與COD、色度去除率的關係
4.4.6光照時間與COD、色度去除率的關係
4.5半導體WO3與稀土氧化物複合體系
4.5.1 WO3/CeO2複合體系
4.5.2 Y2O3/WO3複合體系
4.6半導體WO3與TiO2複合體系
4.6.1熱處理溫度對催化劑形貌及其光催化活性的影響
4.6.2 WO3/TiO2-NRs的物性
4.6.3 WO3/TiO2-NRs的光催化活性
4.7半導體WO3與CdS複合體系
4.7.1催化劑的組成與COD、色度去除率的關係
4.7.2復相催化劑用量與COD、色度去除率的關係
4.7.3試液的pH值與COD、色度去除率的關係
4.7.4光照時間與COD、色度去除率的關係
參考文獻
第5章 金屬離子摻雜光催化劑
5.1釔離子摻雜WO3光催化體系
5.1.1 Y3+摻雜WO3樣品的晶體結構
5.1.2摻雜樣品表面性質的XPS譜分析
5.1.3摻雜樣品的UV-Vis漫反射光譜性質
5.1.4光催化分解水析氧活性
5.2 La3+摻雜WO3光催化劑
5.2.1 La3+摻雜WO3的晶體結構
5.2.2 La3+摻雜WO3樣品光催化活性
5.3 Eu3+摻雜WO3光催化劑
5.3.1催化劑的表征
5.3.2銪摻雜對RB在WO3上吸附量的影響
5.3.3pH對光催化降解效率的影響
5.3.4銪摻雜對WO3光催化活性的影響
5.4 Tb3+摻雜WO3光催化劑
5.4.1 Tb3+/WO3光催化材料的結構表征
5.4.2 Tb3+摻雜對WO3光催化降解率的影響
5.4.3 Tb3+摻雜量對WO3光催化降解率的影響
5.4.4焙燒溫度對WO3光催化降解率的影響
5.4.5溶液pH值對Tb-WO3光催化降解率的影響
5.5 Dy摻雜WO3光催化劑
5.5.1光降解中間產物的色譜及質譜分析
5.5.2不同光照時間後RB的UV-Vis光譜
5.6 Gd和TiO2摻雜WO3光催化劑
5.6.1催化劑的表征
5.6.2 Gd、TiO2摻雜對RB在WO3上吸附量的影響
5.6.3 pH對WO3和Gd/TiO2/WO3光催化活性的影響
5.6.4 Gd、TiO2摻雜及其摻雜量對WO3光催化活性的影響
參考文獻
第6章 三氧化鎢光催化劑套用
6.1在處理無機污染物領域中的套用
6.1.1無機陰離子或氣體有害物質的降解
6.1.2金屬離子的光催化還原
6.1.3無機合成
6.2在處理有機污染物領域中的套用
6.2.1有機物的光催化降解
6.2.2光催化氧化降解染料廢水
6.2.3光催化氧化降解造紙廢水
6.2.4光催化氧化技術處理一般工業廢水
6.2.5光催化氧化技術處理滲濾液的研究
6.2.6光催化氧化技術降解水面有機污染物膜
6.2.7光敏劑協助光催化氧化法對處理廠的二級廢水進行消毒
6.2.8光催化有機合成
6.3在光解水制氫方面套用
6.3.1摻雜Ce的WO3樣品的晶體結構
6.3.2摻雜樣品表面性質的XPS譜分析
6.3.3摻雜樣品的UV-Vis漫反射光譜性質
6.3.4 WO3及不同Ce摻雜量WO3樣品的光致發光性質
6.3.5 Ce/WO3光解水析氧的催化活性
參考文獻
