《一種超分辨微結構衍射光學元件的製作方法》是浙江工業大學於2005年6月29日申請的專利，該專利公告號：CN100345008C，專利授權日：2007年10月24日，發明人是：樂孜純； 董文。
2013年11月11日，《一種超分辨微結構衍射光學元件的製作方法》獲得第十五屆中國專利獎優秀獎。
基本介紹
- 中文名：一種超分辨微結構衍射光學元件的製作方法
- 授權日：2007年10月24日
- 發明人：樂孜純; 董文
- 申請日：2005年6月29日
- 授權公告號：CN100345008C
- 申請號：2005100505219
- 代理人：黃美娟； 袁木棋
- 專利權人：浙江工業大學
- Int. Cl.：G02B5/18（2006.01）； G02B13/00（2006.01）
- 地址：310014浙江省杭州市下城區朝暉六區
- 專利代理機構：杭州天正專利事務所有限公司
- 對比檔案：CN2459675Y2001.11.14； JP2003228160A2003.08.15； JP2002072834A2002.03.12
專利摘要
《一種超分辨微結構衍射光學元件的製作方法》，包括以下步驟：
1、製備光刻掩模版：所述掩模版的工作區為圓形，所述圓由中心圓、中間環和外圍環依次緊密圍成，所述外圍環的外徑：中間環的內徑：中間環的外徑比為2∶0.08∶1.9；
2、在透紫外光的材料上塗覆一層負性光刻膠，並用熱板烘烤固化；
3、對光刻膠進行光刻；
4、對光刻後的樣品先烘烤，再顯影；
5、用濺射或蒸發方法在已完成光刻膠膜製作的樣品上生長一層金屬材料薄膜；
6、將完成鍍膜工藝後的樣品浸泡在丙酮溶液中，去除剩餘的光刻膠，所保留的結構包括有用於與外界固定的基座、外圍亮環、中間暗環和中心亮圓，即製成為超分辨微結構衍射光學元件。
