design rule optimization

design rule optimization 即 版圖設計規則最佳化方法是基於光刻最佳化仿真反饋的信息，重新定義相應的版圖設計規則，是一種新型智慧型最佳化方法。

基本介紹

• 中文名：版圖設計規則最佳化
• 外文名：design rule optimization，DRO
• 所屬學科：積體電路

定義

隨著版圖的特徵尺寸不斷縮小，尤其是在20nm及節點以下，193nm浸沒式光刻機已經達到了解析度極限。儘管採用了先進的SMO和OPC，版圖上仍然有一些難以解決的壞點。為了解決這一問題，從改變設計尺寸的角度，開發出了一種新的光刻最佳化方法。該方法基於光刻最佳化仿真反饋的信息，重新定義相應的版圖設計規則。這種新型的智慧型最佳化方法被稱為版圖設計規則的最佳化（design rule optimization，DRO）。

特點介紹

DRO同步、進行目標圖形、光源、掩模圖形最佳化，以保證整體工藝視窗最大。DRO的最終最佳化結果包括版圖設計規則相關參數、目標圖形、更新後的測量參數、最佳化後的光源和掩模圖形組成。DRO獨特優勢是設計最佳化過程中不需要增加器件尺寸，保證了晶片的尺寸儘可能小的初衷。DRO的意義在於將更多的自由度引入了最佳化中，使得成像誤差進一步降低，從而能解決一些傳統的SMO方法無法解決的掩模上的壞點區域的工藝視窗最佳化問題。

套用

與其他RET方法聯合使用以達到提高成像保真度與改善工藝視窗。