XRD儀器原位反應研究系統是一種用於材料科學、化學工程領域的分析儀器，於2017年10月11日啟用。
基本介紹
- 中文名：XRD儀器原位反應研究系統
- 產地：荷蘭
- 學科領域：材料科學、化學工程
- 啟用日期：2017年10月11日
- 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀
技術指標,主要功能,
技術指標
XRK 900原位反應器最高溫度900℃ ,可導入和導出氣氛，耐壓10MPa； TTK 450原位反應器中低溫變溫樣品台溫度範圍：- 193℃～450℃（真空環境） ，- 120℃～300℃（非真空環境）。
主要功能
通過對需要測定的樣品進行溫度、濕度、氧化等反應，觀察樣品在不同環境下的不同形態和狀況，得到具體的實驗數據，一般用於材料、陶瓷等領域。溫度範圍可以控制在-190℃到900℃。
