電交叉連線技術基本原理
電交叉連線設備的核心器件是交叉連線矩陣,用以實現N條輸入信號中一定等級的各個支路之間任意的交叉連線。
理解電交叉首先要了解時隙的概念,對於OTN,就好像一個傳送帶,把一個個大車廂從一個地方傳送到另一個地方。大車廂里根據需要裝了很多小箱子,小箱子裡又裝了很多更小的箱子。最小的箱子就可能是64k,往上依次是2M、155M、622M、ODUk、光波長等。各種箱子都要標明目的地,當箱子到了目的地後就要卸下來,再把同樣規格的其他箱子裝入到卸下來箱子的位置,接著往下送。
矩陣結構
交叉矩陣目前有兩種常用的結構,即平方矩陣和CLOS矩陣。
(1)平方矩陣
單級交換矩陣也稱為平方矩陣。有N個輸入端、N個輸出端。在某一連線建立期間,每橫排與每縱列只能有一個交叉接點動作。單級交換矩陣,無阻塞,但所需交叉接點多,N×N矩陣,交叉接點數為N×N,例如N=64,則交叉接點總數為64×64=4096。從N個等效交叉時隙擴展至2N個等效交叉時隙,所需交叉矩陣單元會增加到2=4倍,依次類推,矩陣規模呈現平方增加。
(2)三級CLOS網
1954年由克洛斯(CLOS)首先提出了無阻塞條件。以三級CLOS網路為例,由輸入級、中心級和輸出級組成。輸入和輸出級實施空分(S)和時分(T)交換,而中心級只做空分交換,矩陣的典型配置形式為(TS-S-ST)。中心級的容量按規劃設計的最大矩陣容量配置,擴容時只需增加輸入級和輸出級的矩陣容量即可。與平方矩陣相比,三級CLOS矩陣需要控制的交叉點數量大幅減少,適合於大容量交叉連線矩陣的實現。當廣播業務不能超過25%時,這種矩陣對於單向和雙向連線是無阻塞的。
OTN交換單元技術路線分析
OTN交叉連線設備所採用的實現方式看,有採用雙核或者多核技術,有採用單核技術的。雙核與多核技術是將包交換、ODUk交換與VC交換分別以各自的交換盤(或晶片)進行處理。業務盤和線路盤根據信號業務的分類分別調度到不同的交換盤(或晶片)進行交換調度。單核技術則是採用統一交換核心處理包交換、ODUk交換和VC交換。
至於交換核心的技術取向,有採用信元交換的,也有採用VC交叉的。有以下幾種交換技術實現方式。
(1)信元與包交換技術
信元與包交換是將OTN業務分割成信元,利用包交換晶片進行調度,然後再恢復裝載成OTN業務。數據分組業務可以直接用包交換晶片進行處理。
(2)空分交叉技術
空分交叉可以解決幾乎所有的TDM業務交叉,但對包交換無能為力。在空分交換網路內,對各個接續,有一個獨立的物理路由。供不同的連線用的路由沒有公共點,並且在每個連線建立期間均保持這一路由。一條路由是由一組內部鏈路組成的,是通過按矩陣配置的交叉接點來相互連線的。交叉接點有兩個穩定狀態:開斷狀態和閉合狀態。空分矩陣實際上是一種空間接線器,通常以電的形式將輸入和輸出在空間的某一點(或某幾點)上實現物理連線,因而接續時間極短。
其最大的優點在於業務無關性,其最大的問題在於容量的限制。
(3)時分交叉技術
時分交換網路向用戶提供的路由只是一個時隙,即僅在給定的時隙內,這條路由是指定給某一對用戶使用的。在別的時間內則可能分配給別的用戶使用。時分矩陣實際是一種時隙交換器,常用隨機存儲器來實現。通過將輸入信號存儲在不同的空間位置,利用讀出控制電路控制在不同時隙中的時間讀出不同列的內容,從而實現不同輸入信號之間的時隙交換。這種矩陣的延時較大,遠遠大於空分矩陣。
當前的交叉晶片的實現技術主要有兩種:一種是採用時分-空分-時分(TST)結構的交叉技術來實現,採用該技術,晶片電路規模小一點,但交叉連線的實現算法比較複雜,交叉連線的實現速度、重構性等方面有些不足;另一種結構是一種基於比特切割的實現方法,可以實現任意連線埠任意時隙之間的交叉,實現算法簡單,容易級聯與擴展,交叉連線的速度快,重構性強。
國外設備製造商偏重於ODUk與VC交換,國內市場則更重視ODUk與包交換。從技術的發展來看,相對於SDH交換而言,包交換應給予更多的重視與容量分配。從器件供應商以及OIF標準發展來看,OTN支持分組功能則很可能是今後一段時間的發展方向。
OTN交叉連線限制的解決方案
如同SDH設備一樣,OTN設備也會存在阻塞現象,業務一般經過ODUk封裝後,通過背板匯流排進入交叉矩陣單元,如果業務自身顆粒度較大,例如ODU2,匯流排頻寬就不會浪費,但是業務顆粒較小時,例如ODU1或ODU0,單獨承載一個業務的這條匯流排的頻寬不會用滿,業務數量較多,匯流排被用盡,其他業務就無法實現交叉功能。
傳統的OTN設備處理流程是異步處理流程,業務信號經ODU映射,進入交叉矩陣,再經過ODU成幀器,成為OTUk彩光口,反之亦然。這種實現方式首先是難以超大容量的ODUk交叉,對於所有粒度的ODUk難以實現無阻交叉。