LKJ-150離子束刻蝕系統是一種用於物理學領域的核儀器，於2016年1月4日啟用。
基本介紹
- 中文名：LKJ-150離子束刻蝕系統
- 產地：中國
- 學科領域：物理學
- 啟用日期：2016年1月4日
- 所屬類別：核儀器 > 離子束分析儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
（1）離子源離子源口徑：150mm（2）離子能量離子能量可調範圍：0~1000eV（3）離子束流 離子束流峰值密度：≥0.7mA/cm2（4）有效束徑：≥100mm（5）系統壓強系統極限壓強：≤8.5×10-5 Pa系統工作本底壓強：≤5×10-4 Pa（6）真空抽速從大氣壓強抽至工作本底壓強周期時間：≤45分鐘（7）氣體控制 Ar氣質量流量控制範圍：0~10sccm Ar氣質量流量控制準確度：±15%(F.S.) Ar氣質量流量控制重複精度：±0.2%(F.S.) （8）刻蝕工作檯 台面直徑：150mm 刻蝕角範圍：0~90° 自轉速度：≥7rpm 台面溫度：10~25℃。
主要功能
設備為單室真空系統，配有一台離子源，利用其所產生的平行離子束，對光刻膠掩膜或金屬掩膜下的各種材料進行物理刻蝕。
