LITI成像

雷射感應熱成像(簡稱為LITI)方法是利用一套供體膠片、一組高精度的雷射曝光系統和一副襯底來完成的。雷射成像系統由雷射器、光波調節器、校準與光束擴張光學組件、衰減器、電流計和f-θ掃描透鏡組成。

基本介紹

• 中文名：LITI成像
• 簡稱為：LITI
• 利用：一套供體膠片
• 過程：首先，將熱轉印的供體壓在基質上

LITI過程

LITI過程描述如下：首先，將熱轉印的供體壓在基質上，供體與受體表面必須緊密接觸。然後，用雷射束對供體的成像模板進行曝光，結果成像圖案從供體接觸面向傳輸層(光發射材料)釋放，並附著在傳輸層的受體接觸面上。最後，將使用過的供體剝離，這樣在曝光區內的高解析度條紋就被轉印了。為了形成全彩色的顯示，順序使用紅、綠、蘭3種供體膠片。

特點

LITI轉印是一種具有獨特優勢的雷射定址高解析度圖形處理方法，例如，轉印膠片的厚度極其均勻，多層疊的轉印能力及具有可擴展性的大尺寸母板玻璃等等。

由於這是一種乾法工藝，所以LITI轉印不受轉印層可溶性物質的影響。因此，我們能夠提出襯層的可溶性空穴傳輸層的解決辦法，並提高OLED的性能。LITI成像方法提供了具有極好的厚度均勻性的平直、光滑和均勻的成像條紋。光發射材料能夠通過旋塗、絲網塗敷、或真空噴鍍等方法塗敷到供體膠片之上。LITI成像精度高於±2.5μm，這種特殊的精度是LITI轉印技術的一個與眾不同的優點。採用LITI技術，能夠獲得超過200ppi的極高解析度圖像。與傳統的精密掩膜板方法(極限解析度為150ppi)相比，這是一個顯著的性能特點。