ICP寶石刻蝕機

ICP寶石刻蝕機是一種用於物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2011年12月27日啟用。

基本介紹

• 中文名：ICP寶石刻蝕機
• 產地：韓國
• 學科領域：物理學、電子與通信技術
• 啟用日期：2011年12月27日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

二氧化矽刻蝕選擇比：4:1~10:1；刻蝕尺寸：2寸*7片。

主要功能

對寶石、GaN等材料進行精細加工。