EMI 產品的鍍率

基本介紹

• 中文名：EMI 產品的鍍率
• 銅靶：7支
• 不鏽鋼靶：1支
• 靶材：8支

測試器材

在（40吋）九節連續式濺鍍機上，共有8支靶材，7支銅靶，1支不鏽鋼靶，進行EMI製程

條件設定

條件一：

擺放9pcs NB產品，在BP壓力1.5E-5torr基礎上，7支銅靶設定

靶材	Cu	Cu	Cu	Cu	Cu	Cu	Cu	SuS
功率（kw)	6	6	6	6	6	6	6	5
鍍膜時間(sec)	3

測量的阻值是7Ω

條件二：

擺放6pcs NB產品，在BP壓力8E-5torr基礎上，7支銅靶設定

靶材	Cu	Cu	Cu	Cu	Cu	Cu	Cu	SuS
功率（kw)	9	9	9	9	9	9	9	6
鍍膜時間(sec)	5

測量的阻值是7Ω

結論

基於這兩個參數下，靶材消耗的狀況，想請教這位大蝦，Cu在兩種真空壓力下的鍍率狀況如何？另在此壓力下，膜層沉積還有哪些因素導致兩種條件差異如此巨大才能達到最終阻值的要求？