利用IPL和RF雙極射頻技術，E光機針對整個真皮層和結締組織發揮作用，刺激不同深度的膠原，重新排列和生長，從而達到治療效果的儀器
基本介紹
- 中文名：e光嫩膚儀
- 所用技術：IPL和RF雙極射頻技術
- 主要針對：整個真皮層和結締組織
- 適用範圍：祛皺、拉皮、面部拉開等
- 技術優勢：智慧型化控制系統等
- 核心技術：射頻+光能+表皮冷卻
簡介,核心技術,E光原理,系統優勢,治療範圍,注意事項,
簡介
利用IPL和RF雙極射頻技術，E光機針對整個真皮層和結締組織發揮作用，刺激不同深度的膠原，重新排列和生長，從而達到治療效果，雙級射頻同時釋放能量，利用皮膚對光能的選擇性吸收，使表皮和真皮層的各種病變組織，產生光熱解效應。由於光能遠遠低於傳統IPL，可在不損傷表皮的前提下使表皮層、真皮層各種色素性和血管性病變組織吸收更多的能量，更好的祛除這些病變組織，達到治療的效果。
技術優勢：
1. 具有IPL光能和冰電拉皮技術的所有優勢,治療效果更顯著。
2. 超大藍色液晶觸控螢幕,智慧型化控制系統,超大的16組存儲容量,使性能更穩定。
3. 現代感觀設計, 全注塑外殼絕緣性能良好,防靜電,抗干擾。
適用範圍：1、祛皺、拉皮、面部拉開。
2、祛深層斑、表皮斑、真皮斑、雀斑、老年斑、黃褐斑。
3、淨白嫩膚
4、脫毛：淺、深層不同粗細程度多餘毛髮。
5、治療痤瘡、祛紅血絲。
核心技術
射頻+光能+表皮冷卻。在E光技術中，光能扮演的是一個引導者的角色，引導射頻能集中作用於靶組織，在光能強度較低的情況下強化靶組織對射頻的吸收。同時治療頭表面接觸式冷卻技術消除了因光能過強導致的熱作用並增加了表皮的阻抗，減少表皮對射頻能的吸收，使療效和安全性都大大提高，而且對淺色靶組織同樣有效。
E光原理
E光治療頭的核心技術主要有三點:雙極射頻+低能量脈衝光能+表皮冷卻。基於光能會被表皮色素大量吸收，高能量或者深色皮膚治療時風險較大，另外由於大部分光能被反射和折射，真正到達皮膚組織充分吸收的能量僅占30%-40%，如果達到治療目的，就需要提高能量，相對皮膚會易於灼傷。E光技術中光能主要用於調整組織的阻抗值，引導RF（射頻）能量深入集中，配合表皮冷卻技術，將射頻推向真皮組織，在光能較低的情況下，加強靶組織對RF（射頻）的吸收，從而避免主要能量的反射和折射問題。RF（射頻）能量的吸收並不受黑色素的影響，被證實可用在深色皮膚及淺色的細軟毛髮上，低能量脈衝光作用的疼痛感覺及風險也大大降低。
系統優勢
1． RF（射頻）能量的吸收不受色素屏障的影響。
2． 可用在深色皮膚及淺色皮膚的細軟毛髮上。
3． 低能量脈衝光，減低皮膚灼傷危險及疼痛感覺。
4． 消除因光能過熱引起副作用。
5． 特有的安全裝置，安全保護皮膚。
6． 治療頭直接緊貼皮膚，不需測量與皮膚的距離，易於掌握。
治療範圍
1. 脫除人體多餘毛髮。
2. 祛除深層斑、祛表皮斑、美白嫩膚、祛紅血絲。
3. 祛除痤瘡、有效改善敏感性皮膚。
4. 祛除皺紋、拉皮、提升。
注意事項
E光治療前注意事項：
1）治療前一個月禁止暴曬。
2）治療前兩天，避免化學性或機械性刺激。
3）治療前兩周，禁用填充物或其它注射等介入性治療。
E光治療後注意事項：
1、避免使用含有酒精成份的化妝水。
2、禁止用功效型和刺激性強的護膚品。
3、術後一周用涼水洗臉，用柔和洗面乳潔面，不可用皂類；不要用力擦洗；禁止蒸桑拿、蒸面；術後一周內禁食辛辣刺激食物，海鮮、牛羊肉等發物；少食色素含量重的食物；禁菸酒。
4、三天后要做純天然的補水面膜。
5、十天可做正常皮膚護理但不可去角質和按摩。
6、E光治療後，因為皮膚比較細嫩要預防日曬，避免紫外線照射，三天后要使用不含粉底的防曬霜（SPF30以上）。嚴禁使用蘆薈、消炎阿司匹林和酒精（包括含有酒精的化妝品），切不可擠、壓、碰、磨擦治療面。
7、避免人為因素造成被提出表皮的色素提早脫落，讓其自行代謝。
8、部分患者在接受治療後可能會出現局部紅腫，一般會在24－72小時自行消失，無須治療。少數患者可能出現結痂和紫癜，這種現象會在2周內自行脫落和消失，期間請保持創面的乾燥、清潔。
9、由於對強光的敏感性存在個體差異，E光治療後極少數患者會出現色素沉著，通常3－9月內自行吸收，可以配合口服維生素C、E促進色素代謝，增強皮膚免疫力。
10、治療後因為皮膚的吸收能力增強，新陳代謝加快，部分患者可能出現皮膚乾燥缺水的情況，所以術後須皮膚護理來補充足夠的水分和營養。
