7N 光電子級超純氨

《7N 光電子級超純氨》是2019年12月31日實施的一項行業標準。

基本介紹

• 中文名：7N 光電子級超純氨
• 外文名：7N photoelectric class hyperpure ammonia
• 標準編號：T/ZZB 1373—2019
• 發布日期：2019年11月27日
• 實施日期：2019年12月31日

起草人

本標準主要起草人：陳樹大、戚棟明、周春陽、朱盛霞、周平、彭昆鵬、查春峰、潘佳偉、盧勇華、 王龍、趙曉蘭、陳華燕（排名不分先後）。

起草單位

本標準由浙江藍箭萬幫標準技術有限公司牽頭組織制定。 本標準主要起草單位：海寧市英德賽電子有限公司。 本標準參與起草單位：浙江理工大學、嘉興學院、杭州士蘭明芯科技有限公司（排名不分先後）。

適用範圍

本標準規定的產品氨適用於半導體工業，氮化矽、氮化鎵的化學氣相沉積，也可用於矽或氧化矽的氮化等生產工藝所使用的氨氣。

分子式： NH3。

相對分子質量： 17.031（按 2016 年國際相對原子量）。

技術內容

本標準規定了 7N 光電子級超純氨的基本要求、技術要求、試驗方法、檢驗規則、標誌、包裝、運輸、貯運及安全要求和質量承諾。