22-14納米積體電路器件工藝先導技術

《22-14納米積體電路器件工藝先導技術》，是依託於中國科學院微電子研究所、武漢新芯積體電路製造有限公司、復旦大學，主要由葉甜春、徐秋霞、陳大鵬、殷華湘、霍宗亮、張衛完成的科研項目。

基本介紹

• 中文名：22-14納米積體電路器件工藝先導技術
• 依託單位：中國科學院微電子研究所、武漢新芯積體電路製造有限公司、復旦大學
• 主要完成人：葉甜春、徐秋霞、陳大鵬、殷華湘、霍宗亮、張衛
• 獲獎情況：國家技術發明獎二等獎

項目簡介

該項目通過產學研合作研究與集中開發，在22-14納米積體電路先進制造技術中創新研發了高k金屬柵、22納米平面器件集成、14納米三維FinFET等核心器件的關鍵工藝技術，形成了成體系的自主智慧財產權體系，獲得發明專利授權674 件，含美國專利授權256件，被IBM、台積電、三星等國內外半導體企業引用806次，並向武漢新芯、中芯國際等IC 製造公司進行了的專利許可和轉讓，同時在北方微等國產IC裝備企業的相關產品進行了推廣套用。

獲獎記錄

獲2017年度國家技術發明獎二等獎。