193nm負顯影

193nm負顯影是指使用193nm光源進行光刻時使用的負顯影工藝。

基本介紹

• 中文名：193nm負顯影
• 外文名：193nm negative tone development

在積體電路製造工藝中，儘管對193nm浸沒式光刻所使用的光刻負膠進行了研發，但是其性能仍然與正膠有差距。自然而然，負顯影工藝概念被提出，即使用正膠曝光，負顯影液（並不是標準的TMAH水溶液）來實現和負膠顯影相同的效果。

193nm負顯影工藝的採用是的亮掩模在正膠上實現窄溝槽。之前的光刻工藝顯影液一般使用TMAH（1%-2%）水溶液，顯影完成後使用去離子水進行沖洗。193nm負顯影使用的顯影液是有機溶劑，顯影完成後的沖洗液也是有機液體。