《157nmF2分子雷射及遠紫外混頻技術研究》是依託中國科學院上海光學精密機械研究所，由王潤文擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：157nmF2分子雷射及遠紫外混頻技術研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：王潤文
- 依託單位：中國科學院上海光學精密機械研究所
- 批准號：69578027
- 申請代碼：F0506
- 負責人職稱：研究員
- 研究期限：1996-01-01 至 1998-12-31
- 支持經費：15（萬元）
項目摘要
研究了非橢圓運算元邊值問題特徵值估計問題，非線性波動方程的局部與整體適應性問題，臨界指數問題，以及以上某些問題的數值分析。研究中改進了已有方法，找到了一類適定解存在的空間，為進一步的研究奠定了基礎。成果包括B-D方程，廣義層流方程，光波導中的磁脈衝傳播方程的適應性；臨界指數問題非平凡正解存在的理想的必要條件，光波導中的磁脈衝傳播方程的孤立子解存在的計算機判斷等。研究的問題大多來源於實際套用學科，有直接的套用，並為類似問題的進一步研究打下了理論和軟體基礎。
