麥克斯·別雷克

麥克斯·別雷克（Max Berek. 1886年-1949年）波蘭光學設計家。

基本介紹

• 中文名：麥克斯·別雷克
• 外文名：Max   Berek
• 國籍：德國
• 民族：波蘭
• 出生地：波蘭
• 出生日期：1886
• 逝世日期：1949
• 職業：光學設計家
• 畢業院校：柏林礦物學院
• 主要成就：光學設計
• 代表作品：Grundlagen der praktischen Optik（實用光學基礎）

人物生平

麥克斯·別雷克（Max Berek. 1886年-1949年）波蘭光學設計家。1886年8月16日生於有“波蘭煤都”之稱卡托維茲市附近的拉席波爾茲鎮（Racibórz）。他早年對晶體物質感到興趣。中學畢業後，在霍茹夫工作。後入柏林大學攻讀礦物學，1910年任柏林礦物學院任助教，1911年獲晶體光學學博士學位。1912年應恩斯特.萊茲廠之聘，成為光學設計師，他在萊茲廠工作37年。別雷克兼任德國馬爾堡大學（Philipps-Universität Marburg）教授。1949年10月15日別雷克在德國布蘭登堡州弗賴堡逝世。

別雷克簽名

主要成就

SUMMITAR 50/2 鏡頭

他的研究重點是顯微鏡理論，尤其是礦物學中套用的偏振光顯微鏡。

麥克斯·別雷克的貢獻包括：

Hektor 135mm/4.5(1934)

Thumbar 90mm/2/2 (1935)

Elmar 50mm/3.5 (1925),135mm/4.5(1931),35mm/3.5(1931)

Summitar 50mm/2 (1939)

論文

Theorie der Anisotropieeffekte zwischen gekreuzten Nicols im Auflich

Ein mikroskopisches Verfahren zur Bestimmung der komplexen Brechungsindizes für homogene Lichtwellen in optisch isotropen und anisotropen basorbierenden Medien

專著

Max Berek,GRUNDLAGEN DER PRAKTISCHEN OPTIK

麥克斯·別雷克著 《實用光學基礎》

專利

麥克斯·別雷克獲得多項鏡頭設計的美國專利

1933年 12月 12日 Light Intensive Objective

1939 年6月27日 Photographic Objective

1939年9月5日 Photographic Objective

1940年3月5日 Optical Polarization System

1942年9月29日 Photographic Objective