| 中文名稱 | 高頻磁控濺射 |
| 英文名稱 | high frequency magnetron sputtering |
| 定 義 | 通過電極間施加高頻電壓獲得高頻放電而使靶極獲得負電位的磁控濺射。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |
| 中文名稱 | 高頻磁控濺射 |
| 英文名稱 | high frequency magnetron sputtering |
| 定 義 | 通過電極間施加高頻電壓獲得高頻放電而使靶極獲得負電位的磁控濺射。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |