高精量微納米材料沉積及掃描式雷射分析系統

高精量微納米材料沉積及掃描式雷射分析系統是一種用於化學、材料科學領域的分析儀器，於2019年11月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：高精量微納米材料沉積及掃描式雷射分析系統
• 產地：美國
• 學科領域：化學、材料科學
• 啟用日期：2019年11月13日
• 所屬類別：分析儀器

技術指標

1、非接觸沉積； 列印特徵線寬度最小5微米； 列印的溶劑黏度可達450cp； 可列印線，圓，折線，點陣等圖形； 三軸定位系統解析度優於5微米。 2、XY軸掃描面積12.5*12.5平方毫米； XY軸掃描可重複性50納米； XY軸掃描速度0.0001毫米每秒~10毫米每秒； XY馬達最小步長最小100納米。

主要功能

1、美國Sonoplot納米材料沉積噴墨列印系統Microplotter II, 是世界上最先進最精密的微納米列印系統，又名納米材料沉積噴墨列印系統，在製作過程中沒有加熱和剪下應力因而不會改變溶劑特性如敏感生物分子活性。再加上調試的可重複性，使得此儀器廣泛用於聚合物光電器件、生物電子、有機電子、碳納米管石墨烯器件、微電子MEMS 、不同材料的多重構築、定位定量微納修補以及製作各種材料薄膜等套用領域。 2、Scala μini主要用於動態和靜態模式下分子間相互作用的檢測。