高精密位移測量系統

高精密位移測量系統是一種用於物理學領域的分析儀器，於2018年6月30日啟用。

基本介紹

• 中文名：高精密位移測量系統
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2018年6月30日
• 所屬類別：分析儀器 > 色譜儀器 > 氣相色譜儀

技術指標

系統應變噪聲≤50με； 應變測量範圍0.005%~≥2000%； 設備位移測量精度≤0.01像素，解析度≤0.001像素； 圖像處理計算速度＞80000點/秒/CPU； 工業圖像採集頭：解析度2448（H）x2048（V）幀率75FPS。

主要功能

用於實現非接觸、全場測量位移和應變，驗證我們理論分析模型，這樣使我們的理論分析、數值模擬與實驗測試結合起來，使我們很多方向的研究工作向前推進一大步，許多在基礎理論方面的研究工作可以得到實驗驗證、提升研究成果水平。