高真空雙腔自動化電子束蒸鍍系統

高真空雙腔自動化電子束蒸鍍系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年6月7日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空雙腔自動化電子束蒸鍍系統
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2016年6月7日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

蒸發源:旋轉式坩堝6個,容量為7cc,電源功率6kW.樣品台:水冷基座,可0-180度傾轉.。

主要功能

配備進樣室,真空抽速快;樣品台與蒸發源距離大,降低熱輻射對樣品的影響,利於鍍膜後的光刻膠剝離;.配置有膜厚監控儀,實時掌控鍍膜厚度.。