高真空薄膜沉積儀

高真空薄膜沉積儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2007年07月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空薄膜沉積儀
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2007年07月01日
• 所屬類別：分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器

技術指標

1、真空抽氣系統：主沉積室：選用渦輪分子泵FB1200+機械泵2XZ-15機組抽氣，並設定旁路抽氣。（1）極限真空：系統經24小時烘烤，連續抽氣P≤6.6×10-5Pa（2）抽速：系統由大氣開始抽氣在≤40分鐘內，P≤6.6×10-4Pa（3）系統漏率：用氦質譜檢漏儀檢漏漏率≤1×10-8PaL/S2、磁過濾弧源：直流弧源，彎管900，彎管壁繞紫銅冷卻水管，出口內徑180㎜，靶直徑Φ60㎜，帶有聚焦磁場線圈，可加正負40V偏壓，從弧源法蘭處引入氣體，沉積速率1μm/h。

主要功能

可用於開發單層及多層功能膜——各種硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜、鐵磁膜和磁性薄膜等。