高真空物理沉積儀

高真空物理沉積儀是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2010年12月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空物理沉積儀
• 產地：中國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2010年12月01日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 機加工工藝實驗設備

技術指標

磁控室極限真空度：≤6.67x10-5 Pa；電子束及電阻蒸發室極限真空度：≤6.67x10-5 Pa； 系統真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；系統從大氣開始抽氣，40分鐘可達到6.6x10-4 Pa； 停泵關機12小時後真空度：≤5 Pa。

主要功能

系統主要由濺射真空室、電子束及電阻蒸發室、磁控濺射靶、基片水冷加熱台、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱台、工作氣路、抽氣系統、安裝機台、真空測量。