高溫光學浮區單晶爐

高溫光學浮區單晶爐是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2018年06月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：高溫光學浮區單晶爐
• 產地：德國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2018年06月13日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

熔區溫度最高2200℃，拉伸尺寸最大100mm，調節速率0.6mm/s，氣體流量0.25~1L/min可控，料棒台尺寸~6，拉升速率0.1~200mm/h，旋轉速率0~150rpm可調。

主要功能

光學浮區法是一種垂直的區熔法，區熔法是將一個多晶材料棒，通過一個狹窄的高溫區，使材料形成一個狹窄的熔區，移動材料棒，使熔區移動而結晶，最後形成單晶棒。