高平均功率雷射晶體是指能滿足連續或平均雷射輸出功率在幾百瓦到幾千瓦的雷射器需求的晶體工作物質。為了獲得較高的輸出功率,雷射晶體不僅需要有較大的躍遷截面和較長的螢光壽命,而且工作物質應有足夠大的尺寸和足夠好的均勻性。
基本介紹
- 中文名:高平均功率雷射晶體
- 外文名:laser crystal with high a-verage power
- 學科:材料工程
- 領域:工程技術
高平均功率雷射晶體是指能滿足連續或平均雷射輸出功率在幾百瓦到幾千瓦的雷射器需求的晶體工作物質。為了獲得較高的輸出功率,雷射晶體不僅需要有較大的躍遷截面和較長的螢光壽命,而且工作物質應有足夠大的尺寸和足夠好的均勻性。
高平均功率雷射晶體是指能滿足連續或平均雷射輸出功率在幾百瓦到幾千瓦的雷射器需求的晶體工作物質。為了獲得較高的輸出功率,雷射晶體不僅需要有較大的躍遷截面和較長的螢光壽命,而且工作物質應有足夠大的尺寸和足夠好的均勻性。簡介高...
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